脉冲激光外延制备系统简单实用的PLD系统、磁控溅射系统，性能稳定的薄膜沉积系统，可提供PLD、磁控溅射、蒸发镀膜等多种薄膜制备方案，是多铁性薄膜制备的设备，*的石墨烯生长装置可以制备高质量的石墨烯薄膜。制备系统可制备的薄膜包括氮化物、氧化物、多层膜、石墨烯、碳纳米管、2D材料，例如基片加热装置、原位监测工具。此外还为您提供标准的薄膜以及材料涂层，例如氧化物涂层、导电薄膜、无定型或纳米晶、聚合物、纳米钻、钻涂层以及器件加工。系统利用磁性氧化物中固有的氧空位，不需要离子液体栅极，...

快速化学淬灭系统低价格、高性能、低样品消耗，*的数据获取功能，使用简便，是研究和教学的理想仪器。因为有的化学反应某一反应物是过量的，当反应进行到一定程度，目标产物已经获得，该过量反应物继续存在的话会进一步反应生成不希望的产物，所以需要淬灭，淬灭的原理是用另一种更易与该过量化合物反应的化合物与之反应，从而将其从体系中除去。在化学反应中，为了保证反应的*，通常某一反应物是过量的，此时过量的反应物可能会进一步反应生成不需要的产物或者对检测造成影响，所以就需要进行淬灭，化学发光需要用...

快速动力学停流装置是好的多路混合停流装置，淬灭装置，快速混合温度突变等装置系统，产品设计解决您快速动力学应用中的所有需要。主要特点：1.恒温水夹套设计，全电脑控制操作。2.程控驱动注射器，每路样品流量可调，不受浓度与粘度影响。3.高精度，*可调的混合与稀释比例。4.极短的死时间，可达0.25毫秒。5.二路、三路、四路流动注射停流装置可选择。可扩展温度适用范围：快速动力学停流装置可更换SFM附件，应用于：化学淬灭，光学淬灭以及光学延时，冷冻淬灭，X-射线散射停流，中子色散停流，...

表面光电压谱采用白光偏置光路激发材料；大功率*脉冲激光器，采用电磁屏蔽，无任何外界干扰，测试光路，水平与垂直可任意在线切换，实现固体样品和液体样品均可测试分析。光生载流子动力学主要测试技术，载流子动力学测试技术主要有电学和谱学两类，电学方法主要是光电化学，测量方式又分时间域和频率域，时间域方法主要有瞬态光电压（TPV）和瞬态光电流（TPC），频率域方法主要有电化学阻抗谱（EIS）和光强度调制光电压谱（IPVS）和光强度调制光电流谱（IMPS）等。谱学方法主要是瞬态吸收光谱和瞬...

多功能磁控溅射仪由真空镀膜系统和手套箱系统集成而成，可在高真空蒸镀腔室中完成薄膜蒸镀，并在手套箱高纯惰性气体氛围下进行样品的存放、制备以及蒸镀后样品的检测，用于制备各种金属膜、半导体膜、介质膜、磁控膜、光学膜、超导膜、传感膜以及各种特殊需求的功能薄膜。磁控溅射仪的工作原理是指电子在电场E的作用下，在飞向基片过程中与氩原子发生碰撞，使其电离产生出Ar正离子和新的电子，新电子飞向基片，Ar离子在电场作用下加速飞向阴极靶，并以高能量轰击靶表面，使靶材发生溅射。在溅射粒子中，中性的靶...

狭缝挤出式涂布机是一款应用狭缝挤出式涂布模头对基材进行非接触式涂布的一款设备。该设备通过配置狭缝挤压涂布模头、精密计量供料系统与进料阀体配合可实现连续涂布和条纹涂布两种类型的涂布功能。设备涂布精度高，一致性和稳定性好，广泛应用于锂离子电池、FCCL、光学薄膜、胶带以及各种功能薄膜行业，狭缝挤出涂布方式，涂布精度高，涂层一致性好；供料阀体配合模头垫片，可实现连续、间歇、条纹、网格等形状的涂布；模头根据客户材料特性设计，可实现超薄亚微米级涂布；计量泵供料，浆料封闭运行，可自由设定...